激光共聚焦顯微鏡、掃描電鏡、原子力顯微鏡的區(qū)別和關(guān)聯(lián)成像進展

激光共聚焦顯微鏡，掃描電鏡，原子力顯微鏡是目前科 研領(lǐng)域用的比較多的成像系統(tǒng)。近年來，隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，各種系統(tǒng)關(guān)聯(lián)應(yīng)用成為一個趨勢，本文簡單整理一下各種顯微鏡的區(qū)別及關(guān)聯(lián)進展情況。

一、極限分辨率不同, 緣于放大信號源的差異

激光共聚焦：極限分辨率 150nm. 采用極純單色短波可見光做光源成像，通過更換物鏡可改變分辨率和圖像質(zhì)量。

掃描電鏡：根據(jù)電子槍發(fā)射原理不同，當(dāng)前技術(shù)的極限分辨率20nm~0.8nm. 采用電子光學(xué)成像。主要通過改變電磁透鏡的焦距來改變分辨率。

原子力顯微鏡：極限分辨率0.1nm，采用杠桿放大激光測距成像！掃描針尖的曲率半徑?jīng)Q定分辨率。
二、掃描驅(qū)動方式不同

激光共聚焦：激光光源非常細(xì)，使用計算機控制的激光轉(zhuǎn)鏡控制激光掃描范圍和掃描速度，從而控制放大倍數(shù)和圖像質(zhì)量。

掃描電鏡：計算機控制的掃描線圈控制電子束掃描范圍和掃描速度，從而調(diào)節(jié)放大倍數(shù)和圖像質(zhì)量。

原子力顯微鏡：計算機控制的壓電位移傳感器驅(qū)動樣品臺X,Y 方向掃描，實現(xiàn)掃描范圍和掃描速度調(diào)控，從而改變放大倍數(shù)和圖像質(zhì)量。

三、立體成像的差別

激光共聚焦：通過納米精度步進電機驅(qū)動樣品在Z軸方向逐層成像，然后軟件將設(shè)定的各層圖像合成清晰立體圖像。

圖像景深是Z周驅(qū)動范圍決定.

掃描電鏡： 單幀圖像具有很大景深，但屬于二維圖像，通過立體對技術(shù)可實現(xiàn)三維成像。

原子力顯微鏡：成像的本質(zhì)就是測量表面每個像素點的高低，描繪出立體形貌。所以每個像素Z方向的數(shù)據(jù)必須是精確的，否則形貌不準(zhǔn)確。傳統(tǒng)采用管式驅(qū)動器，X/Y方向搖擺掃描，造成圖像失真，再現(xiàn)性差。*新的采用獨立X、Y掃描驅(qū)動器，形貌精確。

四、工作環(huán)境差別

激光共聚焦和原子力顯微鏡可以在大氣環(huán)境中進行測試樣品

一般掃描電鏡必須在高真空環(huán)境下進行測試樣品

五、應(yīng)用范圍差別

激光共聚焦：幾倍 ~ 幾千倍，樣品制備簡單

掃描電鏡 ：幾倍~幾十萬倍，樣品制備稍微復(fù)雜一些，但總體也很簡單

原子力顯微鏡：幾萬倍~幾千萬倍， 要求樣品非常平坦，樣品制備很難。例如A4紙過于粗糙，無法觀測。

系統(tǒng)關(guān)聯(lián)*新進展

激光共聚焦與掃描電鏡關(guān)聯(lián)，蔡司2013年推出的SHUTTER & FIND可以整合激光共聚焦和掃描電鏡，也有其它幾個品牌合作推出此類系統(tǒng)

應(yīng)用舉例- 通過掃描電鏡，白光共聚焦顯微鏡進行石墨烯特性研究
 

 
原子力顯微鏡AFM與掃描電鏡SEM關(guān)聯(lián)成像（CPEM ）

捷克原子顯微鏡廠家Nenovision 2016年推出litescope，并且**CPEM技術(shù)，已經(jīng)在蔡司，F(xiàn)EI，日本電子，Tescan等電鏡平臺測試完成，系統(tǒng)已經(jīng)在歐洲銷售。

整合了AFM和SEM的技術(shù)優(yōu)勢，即插即用的解決方案–方便使用

同時具備

SEM – 圖像, 化學(xué)分析, 表面修飾

AFM – 3D 表面形貌，粗糙度，導(dǎo)電性，電子特性

應(yīng)用舉例：石墨烯覆蓋的金納米顆粒細(xì)節(jié)研究