①天津金相拋光機(jī)的技術(shù)基礎(chǔ)要求

拋光操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到ZUI大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響ZUI終觀察到的組織，即不會(huì)造成假組織。這兩個(gè)要求是矛盾的。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深，后者要求使用很細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個(gè)矛盾的很好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。先是粗拋，目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有ZUI大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能??；其次是精拋（或稱終拋），其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到ZUI小。（這段的描述很到位，只可惜，后面的水準(zhǔn)陡降。）

②天津金相拋光機(jī)使用技巧

拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。

天津金相拋光機(jī)濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫，潤(rùn)滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。

③天津金相拋光機(jī)使用轉(zhuǎn)述控制

為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低，不要超過(guò)500r/min；拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些，因?yàn)檫€要去掉變形層。

粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋消除精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)速度可適當(dāng)提高，拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。

變頻調(diào)速已被理論和實(shí)踐證明是"節(jié)能明顯，功能豐富，天津金相拋光機(jī)性能穩(wěn)定"的調(diào)速裝置。根據(jù)不同的材料，拋光時(shí)需要選擇合適的速度，得到好的效果。

為了在很短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到合適的試樣制備效果，要采用合適的設(shè)備和正確的制備方法。認(rèn)真地選用設(shè)備和輔助材料，以確保制樣的每一步都達(dá)到預(yù)定目標(biāo)，并能在消除前幾步所造的劃痕和變形的同時(shí)，僅產(chǎn)生很少的新劃痕和變形。